二手CMT16B进口双面抛光机-研磨抛光机设备

二手CMT16B进口双面抛光机-研磨抛光机详细内容

1.设备主要规格

二手进口抛光机-二手cmt研磨抛光机-双面研磨抛光机/POL机床出售转让 

类型	项目	其他
动力	3相220V，50Hz
设备尺寸	1800L x1550W x2850H（电气/空气箱除外）
控制	触摸屏和PLC控制
气压	5~6Kg/cm?。
板尺寸	波尔	φ 384 x φ 1140 x55T[SUS410]
ts底板	R.P.M	46 R.P.M（逆变驱动）
发动机	7.5千瓦x4P
方法	蜗轮（DEC.RATE 1/25）箱式传动
发动机	3.7千瓦x4P
方法	蜗轮（DEC.RATE 1/60）箱传动
部空气压力。 气缸	φ 180X550ST（低摩擦气缸）
设置工件大小	sunarscale unitcontrol（研磨）
ts运营商	载体尺寸	P.C.D φ 423.34[Dp=12/Z=200]
插入量	5EA
工作尺寸
内齿轮	P.C.D φ 1185.34[Dp=12/Z=560]
R.P.M	23R.P.M（伺服电机 驱动器）
发动机	HC-SFS352[3.5 kW]
方法	行星齿轮DEC.DR IVE（de c.rate 1/14）
上下	齿轮马达0.4 kW.1/60
35届
太阳齿轮	P.C.D φ 338.67[Dp=12/Z=160]
R.P.M	29R.P.M（伺服驱 动）	发动机
发动机	HC-SFS152[1.5 kW]
方法	行星geardec，dr ive（1 2月率1/60）
上下	手动操作
双面抛光机	二手进口双面抛光机

Product Description

1.Main specifications of the equipment

※ Above specification can be changed for the better per formance at any time.

2.Basic  things  of  the  equipment

1)Basic   concept   of   the   equipment

This equipment uses 4-WAY mode and gives the movement from the 4 mode to the work.

The  top  and  bottom  plates,sun  gear,and  internal  gear  do  the  rotation  independent  ly  and  it can  process  both  side  of  the  work,so  the  process  stress  is  small  and  improves  parallel  and plane diagram of the work.

4-WAY mode does the planet movement on the plate in full,so the one side wear can be reduced and it is possible to adjust the range of the air pressure using the electric regulator.

With  the  4-WAY  movement  and  using  accurately  calculated  gear  ratio,the  problem  that happens to the carrier when keeping and maintaining the work can be reduced.

Through this,the thin carrier can be used and the process of the thin work and longer lifespan of  the  carrier  are  possible.

2)Development   of   the   equipment   and    its   character   istics

CMT   has    been    developing   the    precision    plane   gr    inder   which    improved    the   basic characteristics of the thin film products.

Especially,we  are  trying  to  study  and  develop  the  high  precision  planar  ization  that  can process    the     crystal,oxide,silicon    wafer,thin     film     glass,etc.thin     and    securely     at     the section and both side gr inding device.

0ur both side LAP/POL MACHINE is designed and produced to show its efficiency considering its characteristics as the machine tool.

Meant ime,Europe or Japan made machines have been introduced to Korea but because of their high  price  it  has  been  hard  to  invest  and  some  Korean  companies  introduced  but  there  has been some problems due to their poor efficiency.

In producing this both side LAP/POL MACHINE,we'd Iike to give you some help.Fur thermore, we will  try  hard  to  improve  our  technical  skills  and  improvement  of  the  product.

☑ Cont inuously var iable transmission of LAP/POL top/bottom plate

Top/bot tom plates work separately and they do continuously variable transmit within the Max. 20  R.P.M(top/bottom  plates)range  through  each  inver  ter  drive.The  touch  screen  shows  the current  R.P.M  of  the  plate.

☑ Cont inuously var iable transmission of internal and sun gears

INTERNAL/SUN gears can do the individual CVT within the internal Gear Max.23 R.P.M/Sun Gear  29  R.P.M  range  thr  ough  the  servo   motor  and   rotate  the  gr  inding  direction  of  the carrier and work.

☑ Working processor can be applied using the touch screen

To  optimize  the  working  condition  of  each  models,it  uses  the  touch  screen  and  inputs  and process  the  pressure,top-bot  tom  plates  rotation,and  sun  gear  rotation  data  in  each  step.